Samsung conferma la produzione di massa di memoria ddr4 a 10 nm
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Samsung ha confermato l'inizio della produzione in serie della memoria DRAM DDR4 con una densità di 8 Gibagit e con il suo avanzato processo FinFET a 10 nm di seconda generazione, che offrirà nuovi livelli di efficienza energetica e prestazioni.
Samsung parla della sua seconda generazione di memoria DDR4 da 10 nm
La nuova memoria DDR4 da 10 nm e 8 Gb di Samsung offre il 30 percento in più di produttività rispetto alla precedente generazione da 10 n, inoltre ha il 10 percento in più di prestazioni e il 15 percento in più di efficienza energetica, tutto grazie utilizzando la tecnologia avanzata di progettazione dei circuiti brevettata.
Il nuovo sistema di rilevamento dei dati consente una determinazione più accurata dei dati memorizzati in ciascuna cella, il che a quanto pare porta a un notevole aumento del livello di integrazione dei circuiti e della produttività di produzione. Questa seconda generazione di memoria da 10 nm utilizza un distanziatore d'aria attorno alle sue linee di bit per ridurre la capacità parassita, ciò facilita non solo un livello più elevato di ridimensionamento, ma anche un funzionamento rapido delle celle.
Carattere Fudzilla“Sviluppando tecnologie innovative nella progettazione e nel processo dei circuiti DRAM, abbiamo superato quella che è stata una grande barriera alla scalabilità della DRAM. DRAM di seconda generazione di classe 10nm, espanderemo la nostra produzione di DRAM 10nm in modo più aggressivo, per soddisfare la forte domanda del mercato e continuare a rafforzare la nostra competitività commerciale ".
“Per consentire questi risultati abbiamo applicato nuove tecnologie, senza l'uso di un processo EUV. L'innovazione qui include l'uso di un sistema di rilevamento dei dati cellulari altamente sensibile e uno schema progressivo di "distanziatori d'aria"."
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